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無錫哈達環保有限公司作為水處理設備廠家,致力于污水處理、廢水處理為多個企業解決環保問題。接下來哈達環保給小伙伴們分享一下半導體超純水設備特點和工藝。
半導體(semiconductor),指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多,按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體;化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化鎘、硫化鋅等;氧化物:錳、鉻、鐵、銅的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體:鎵鋁砷、鎵砷磷等。
除上述晶態半導體外,還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
半導體的生產必須要用的超純水,半導體超純水設備常用工藝:
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)。
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(新工藝)。
3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(新工藝)。
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(新工藝)。
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)。
無錫哈達環保有限公司具備從事水處理、廢氣治理和降噪工程的技術,并在各類水處理設備、降噪設備和廢氣治理技術上積累了豐富的實踐經驗,無錫哈達可為用戶提供技術、設備制造、安裝調試、培訓人員一條龍服務。歡迎前來咨詢:137-0153-3156。
無錫哈達環保有限公司作為水處理設備廠家,致力于污水處理、廢水處理為多個企業解決環保問題。接下來哈達環保給小伙伴們分享一下半導體超純水設備特點和工藝。
半導體(semiconductor),指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多,按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體;化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化鎘、硫化鋅等;氧化物:錳、鉻、鐵、銅的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體:鎵鋁砷、鎵砷磷等。
除上述晶態半導體外,還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
半導體的生產必須要用的超純水,半導體超純水設備常用工藝:
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)。
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(新工藝)。
3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(新工藝)。
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(新工藝)。
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)。
無錫哈達環保有限公司具備從事水處理、廢氣治理和降噪工程的技術,并在各類水處理設備、降噪設備和廢氣治理技術上積累了豐富的實踐經驗,無錫哈達可為用戶提供技術、設備制造、安裝調試、培訓人員一條龍服務。歡迎前來咨詢:137-0153-3156。